光敏印章是上个世纪九十年代初由日本发明的,它是由一种特殊的化工合成材料,通过专用设备瞬间发出强光辐射,使材料表面发生光氧化及热交联作用从而制成的印章。基本原理是利用特殊材料的感光性,在印章表面不需要印迹的地方形成一层不能渗透的膜,从而达到印章的效果。印油通过光敏平面橡胶渗透,因此,使用光敏印章制作印章速度快。光敏印章的工艺特点是印面相对比较平整,印面字迹是由光敏橡胶垫上的微孔组成的,印油在压力作用下,通过印面文字微孔渗出形成印文。光敏印章印迹清晰,字迹的干涸时间短,附着力强,具有较强耐水性。成品外形美观、结构合理。使用次数为2-3万次。
光敏印章为什么要叫光敏印章??
kaliyu
2021-08-09 22:57
开发者_如何学运维
光敏印章是上个世纪九十年代初由日本发明的,它是由一种特殊的化工合成材料,通过专用设备瞬间发出强光辐射,使材料表面发生光氧化及热交联作用从而制成的印章。基本
kaliyu
2021-08-09 22:57
开发者_如何学运维
0
0
0
精彩评论